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法蘭套筒補償器為什么需求鍍鉻？

蒸汽管道中產(chǎn)品鍍鉻的重要性法蘭套筒補償器鍍鉻能夠大大進步產(chǎn)品的整體性能，并在運轉(zhuǎn)現(xiàn)場發(fā)作走漏時可由壓注槍停止填料密封。法蘭套筒補償器主密封資料為柔性石墨資料。對芯管（內(nèi)套管）和外殼無腐蝕。密封資料與芯管外表的摩擦系數(shù)≤0.15；密封性能良好，在適用的壓力、溫度工作及壓力實驗時無滲漏。法蘭套筒補償器產(chǎn)品為保證密封資料壽命，其分離面要有工藝處置措施。為進步導向性能和安全性，應有次密封構(gòu)造設計，其分離面要有鍍硬鉻處置措施，鍍層厚度不小于0.1mm或采用不銹鋼構(gòu)造。

鍍鉻工藝引見：　　

鉻是一種微帶藍色的雪白色金屬，金屬鉻在空氣中極易鈍化，外表構(gòu)成一層極薄的鈍化膜，從而顯現(xiàn)出 貴金屬的性質(zhì)。

鍍鉻層具有很高的硬度，依據(jù)鍍液成分和工藝條件不同，其硬度可在很大范圍400～1200HV內(nèi)變化。鍍 鉻層有較好的耐熱性，在500℃以下加熱，其光澤性、硬度均無明顯變化，溫度大于500℃開端氧化變色 ，大于700℃硬度開端降低。鍍鉻層的摩擦系數(shù)小，特別是干摩擦系數(shù)，在一切的金屬中是最低的。所 以鍍鉻層具有很好的耐磨性。

鍍鉻層具有良好的化學穩(wěn)定性，在堿、硫化物、硝酸和大多數(shù)有機酸中均不發(fā)作作用，但能溶于氫氯酸 （如鹽酸）和熱的硫酸中。在可見光范圍內(nèi)，鉻的反射才能約為65%，介于銀（88%）和鎳（55%）之間 ，且因鉻不變色，使用時能持久堅持其反射才能而優(yōu)于銀和鎳。

由于鍍鉻層具有優(yōu)秀的性能，普遍用作防護一裝飾性鍍層體系的表面層和功用鍍層，在電鍍工業(yè)中不斷 占重要的位置。隨著科學技術(shù)的開展和人們對環(huán)境維護的日趨注重，在傳統(tǒng)鍍鉻的根底上相繼開展了微 裂紋和微孔鉻、黑鉻、松孔鉻、低濃度鍍鉻、高效率鍍硬鉻、三價鉻鍍鉻、稀土鍍鉻等新工藝，使鍍鉻 層的應用范圍進一步擴展。

依據(jù)鍍鉻液的組成和性能不同，可將鍍鉻液分為如下幾類。

①普通鍍鉻液 以硫酸根作為催化劑的鍍鉻溶液。鍍液中僅含有鉻酐和硫酸，成分簡單，使用好處，是 目前應用最為普遍的鍍鉻液。鉻酐和硫酸的比例普通控制在100：1，鉻酐的濃度在150～450g/L之間變 化。依據(jù)鉻酐濃度的不同，可分為高濃度（350～500g/L）、中濃度（150～250g/L）和低濃度（50～ 150g/L）鍍鉻液。低濃度的鍍鉻液電流效率高，鉻層的硬度也高，但掩蓋才能較差，主要用于功用性電 鍍，如鍍硬鉻、耐磨鉻等；高濃度鍍液穩(wěn)定，導電性好，電解時只需較低的電壓，掩蓋才能較稀溶液好 ，但電流效率較低，主要用于裝飾性鍍鉻及復雜件鍍鉻。

②復合鍍鉻液 以硫酸和氟硅酸作催化劑的鍍鉻液。氟硅酸的添加，使鍍液的電流效率、掩蓋才能和光 亮范圍均比普通鍍鉻液有所改善，如陰極的電流效率可到達20%以上。但是，氟硅酸對陽極和陰極零件 鍍不上鉻的部位及鍍槽的鉛襯均有較強的腐蝕作用，必需采取一定的防護措施，其襯里和陽極hen好采用 鉛一錫合金。此鍍液主要用于滾鍍鉻。

③自動調(diào)理鍍鉻液 以硫酸鍶和氟硅酸鉀為催化劑的鍍鉻液。在一定溫度及一定濃度的鉻酸溶液中，硫 酸鍶和氟硅酸鉀各自存在著沉淀溶解均衡，并分別有一溶度積常數(shù)Ksp，即當溶液中[SO42-]或[SiF62-] 濃度增大時，相應的離子濃度乘積將大于溶度積常數(shù)，過量的SO42-或SiF62-便生成SrSO4或K2SiF6沉淀 而析出；相反，當溶液中[SO42-]或[ SiF62-]濃度缺乏時，槽內(nèi)的SrSO4或K2SiF6沉淀溶解，直至相應 的離子濃度乘積等于其溶度積時為止。所以，當鍍液的溫度和鉻酐的濃度一定時，鍍液中[SO42-]或 [SiF62-]濃度可經(jīng)過溶解沉淀均衡而自動的調(diào)理，并不隨電鍍過程的持續(xù)而變化。

這類鍍液具有電流效率高（270A），允許電流密度范圍大（高達80～100A/dm2），鍍液的分散才能和覆 蓋才能好，堆積速度快等優(yōu)點，故又稱“高速自動調(diào)理鍍鉻”。但鍍液的腐蝕性強。

④快速鍍鉻液在普通鍍鉻液根底上，參加硼酸和氧化鎂，允許使用較高的電流密度，從而進步了堆積速 度，所得鍍層的內(nèi)應力小，與基體的分離力好。

⑤四鉻酸鹽鍍鉻液這類鍍液的鉻酐濃度較高，鍍液中除含有鉻酐和硫酸外，還含有氫氧化鈉和氟化鈉， 以進步陰極極化作用。添加檸檬酸鈉以掩蔽鐵離子。這類鍍液的主要優(yōu)點是電流效率高（35%以上）， 堆積速度快、

鍍液的分散才能好，但鍍液只在室溫下穩(wěn)定，操作溫度不宜超越24℃，采用高電流密度時需冷卻鍍液； 鍍層的光亮性差，硬度較低，鍍后需經(jīng)拋光才干滿足裝飾鉻的請求。

⑥常溫鍍鉻鍍液由鉻酐和氟化物（NH4F或NaF）組成，也可參加少量的硫酸。這種鍍液的工作溫度（15 ～25℃）和電流密度（8～12A/dm2）低，堆積速度慢，適用于薄層電鍍。其電流效率和分散才能較高， 可用于掛鍍和滾鍍。

⑦低濃度鉻酸鍍鉻鍍液中鉻酐濃度較規(guī)范鍍鉻液低5倍，可大大降低對環(huán)境的污染。電流效率及鍍層的 硬度介于規(guī)范鍍鉻液和復合鍍鉻液之間，其掩蓋才能和耐蝕性與高濃度鍍鉻相當。但鍍液的電阻大，槽 電壓高，對整流設備請求嚴厲，同時鍍液的掩蓋才能有待進步。

⑧三價鉻鍍鉻鍍液中以Cr3+化合物為主鹽，添加絡合劑、導電鹽及添加劑。該工藝消弭或降低了環(huán)境污 染，鍍液的分散才能和掩蓋才能較鉻酸鍍液高，陰極電流效率有所改善；可常溫施鍍；槽壓低；電鍍不 受電流中綴的影響。但鍍液對雜質(zhì)敏感，鍍層的光澤較暗，鍍層厚度為幾微米，并不能隨意增厚；鍍層 的硬度低，鍍液成分復雜不利于維護。

⑨稀土鍍鉻液在傳統(tǒng)鍍鉻液的根底上參加一定量的稀土元素及氟離子。采用稀土元素可降低鉻酐的濃度 、拓寬施鍍溫度范圍（10～50℃）及陰極電流密度范圍（5～30A/dm2），降低槽壓，改善鍍層的光亮度 及硬度。使鍍鉻生產(chǎn)完成低溫度、低能耗、低污染和高效率，即所謂的“三低一高”鍍鉻工藝。但關(guān)于 鍍液的穩(wěn)定性和牢靠性，目前尚有不同的見地，特別是對其機理的研討還有待深化。 [1]

主要特性編輯

從常用的鉻酸鍍液鍍鉻，與其他單金屬鍍液相比，鍍鉻液雖成分簡單，但鍍鉻過程卻相當復雜，并具有 如下特性。

①鍍鉻液的主要成分不是金屬鉻鹽，而是鉻的含氧酸——鉻酸，屬于強酸性鍍液。電鍍過程中，陰極過 程復雜，陰極電流大局部耗費在析氫及六價鉻復原為三價鉻兩個副反響上，故鍍鉻的陰極電流效率很低 （10%～18%）。而且有三個異?，F(xiàn)象：電流效率隨鉻酐濃度的升高而降落l隨溫度的升高而降落；隨電 流密度的增加而升高。

②在鍍鉻液中，必需添加一定量的陰離子，如SO42-、SiF62-、F-等，才干完成金屬鉻的正常堆積。

③鍍鉻液的分散才能很低，關(guān)于外形復雜的零件，需采用象形陽極或輔助陰極，以得到平均的鍍鉻層。 對掛具的請求也比擬嚴厲。

④鍍鉻需采用較高的陰極電流密度，通常在20A/dm2以上，比普通的鍍種高10倍以上。由于陰極和陽極 大量析出氣體，使鍍液的電阻較大，槽壓升高，對電鍍電源請求高，需采用大于12V的電源，而其他鍍 種使用8V以下的電源即可。

⑤鍍鉻的陽極不用金屬鉻，而采用不溶性陽極。通常使用鉛、鉛一銻合金及鉛一錫合金。鍍液內(nèi)由于沉 積或其他緣由而耗費的鉻需靠添加鉻酐來補充。

⑥鍍鉻的操作溫度和陰極電流密度有一定的依賴關(guān)系，改動二者關(guān)系可取得不同性能的鉻鍍層。

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